НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ
2015
Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.
БАРАБОШИНА А. А., СВИРИДОВА Т. В., ЦЫБУЛЬСКАЯ Л. С., КОКОРИН А. И., СВИРИДОВ Д. В. НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ. Доклады Национальной академии наук Беларуси. 2015;59(4):68-71.
Цитирование
Список литературы