PT - JOURNAL ARTICLE
AU - БАРАБОШИНА А. А., 
AU - СВИРИДОВА Т. В., 
AU - ЦЫБУЛЬСКАЯ Л. С., 
AU - КОКОРИН А. И., 
AU - СВИРИДОВ Д. В., 
TI - НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ
DP - 2016-06-03
TA - Доклады Национальной академии наук Беларуси
SO - https://www.academjournals.by/publication/3044
AB - Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.