RT - article
SR - Electronic
T1 - НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ
JF - Доклады Национальной академии наук Беларуси
SP - 2016-06-03
A1 - БАРАБОШИНА А. А., 
A1 - СВИРИДОВА Т. В., 
A1 - ЦЫБУЛЬСКАЯ Л. С., 
A1 - КОКОРИН А. И., 
A1 - СВИРИДОВ Д. В., 
YR - 2015
UL - https://www.academjournals.by/publication/3044
AB - Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.