TY  - JOUR
T1  - НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ
JF  - Доклады Национальной академии наук Беларуси
AU  - БАРАБОШИНА А. А., 
AU  - СВИРИДОВА Т. В., 
AU  - ЦЫБУЛЬСКАЯ Л. С., 
AU  - КОКОРИН А. И., 
AU  - СВИРИДОВ Д. В., 
Y1  - 2016-06-03
UR  - https://www.academjournals.by/publication/3044
N2  - Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.