%0 article
%A БАРАБОШИНА А. А., 
%A СВИРИДОВА Т. В., 
%A ЦЫБУЛЬСКАЯ Л. С., 
%A КОКОРИН А. И., 
%A СВИРИДОВ Д. В., 
%T НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ФОТОРЕЗИСТЫ НА ОСНОВЕ СМЕШАННЫХ ОКСИДОВ МОЛИБДЕНА И ВАНАДИЯ
%D 2015
%J Доклады Национальной академии наук Беларуси
%X Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5 : MoO3.
%U https://www.academjournals.by/publication/3044