АНАЛИЗ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ, ИМПЛАНТИРОВАННОГО ИОНАМИ СЕРЕБРА, ПО СПЕКТРАМ ОПТИЧЕСКОГО ОТРАЖЕНИЯ
2017
Проведены исследования оптического отражения поверхности Si, имплантированного ионами Ag+ при низкой энергии 30 кэВ в широком интервале доз 5.0 · 1014-1.5 · 1017 ион/см2, параллельно с электронными микроскопическими наблюдениями образцов. Установлено, что с ростом ионной дозы облучения монотонно снижается интенсивность отражения в УФ области спектра Si. Это вызвано аморфизацией и макроструктурированием его приповерхностного слоя. В длинноволновой области отражения регистрируется селективная полоса с максимумом вблизи 830 нм, обусловленная проявлением плазмонного резонанса ионно-синтезированных наночастиц Ag.
Степанов А. Л., Воробьев В. В., Нуждин В. И., Валеев В. Ф., Осин Ю. Н. АНАЛИЗ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ, ИМПЛАНТИРОВАННОГО ИОНАМИ СЕРЕБРА, ПО СПЕКТРАМ ОПТИЧЕСКОГО ОТРАЖЕНИЯ. Журнал прикладной спектроскопии. 2017;84(5):726-730.
Цитирование
Список литературы