17 Степанов А. Л. Воробьев В. В. Нуждин В. И. Валеев В. Ф. Осин Ю. Н. оптическое отражение ионная имплантация плазмонный резонанс optical reflectance ion implantation plasmon resonance 2017 2025-03-12 Журнал прикладной спектроскопии Проведены исследования оптического отражения поверхности Si, имплантированного ионами Ag+ при низкой энергии 30 кэВ в широком интервале доз 5.0 · 1014-1.5 · 1017 ион/см2, параллельно с электронными микроскопическими наблюдениями образцов. Установлено, что с ростом ионной дозы облучения монотонно снижается интенсивность отражения в УФ области спектра Si. Это вызвано аморфизацией и макроструктурированием его приповерхностного слоя. В длинноволновой области отражения регистрируется селективная полоса с максимумом вблизи 830 нм, обусловленная проявлением плазмонного резонанса ионно-синтезированных наночастиц Ag. https://www.academjournals.by/publication/16468 https://www.academjournals.by/files/16422