Степанов А. Л., Рогов А. М., Сотникова В. Ф., Валеев В. Ф., Нуждин В. И., Коновалов Д. А. Тонкопленочное покрытие с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе слоя нанопористого германия. Журнал прикладной спектроскопии. 2025;92(5):674-678.
1. Z. Zhou, W. Liu, Y. Guo, H. Huang, X. Ding. Coatings, 12 (2022) 1653(1—13), doi: 10.3390/coatings12111653
2. D. Cavalcoli, M. A. Fazio. Mater. Sci. Semicond. Process., 92 (2019) 28—38, doi: 10.1016/j.mssp.2018.05.027
3. J. Song, S. Yuan, C. Cui, Y. Wang, Z. Li, A. X. Wang, C. Zeng, J. Xia. Nanophotonics, 10 (2021) 1081-1087, doi: 10.1515/nanoph-2020-0455
4. S. An, Y. Liao, S. Shin, M. Kim. Adv. Mater. Technol., 7 (2022) 2100912(1—7), doi: 10.1002/admt.2021100912
5. C. Ji, W. Liu, Y. Bao, X. Chen, G. Yang, B. Wei, F. Yang, X. Wang. Photonics, 9 (2022) 906(1—22), doi: 10.3390/photonics9120906
6. K. Wang, Y. Zhang, J. Chen, Q. Li, F. Tang, X. Ye, W. Zheng, Coatings, 14 (2024) 262(1—12), doi: 10.3390/coatings14930262
7. Y. Chen, C. Zhang, Z. Yi, J. Wu, Y. Zhang, L. Bian, L. Liu, X. Ye, H. Yang, H. Li. Solar Energy Mater. Solar Cell, 248 (2022) 112005(1—10), doi: 10.1016/j.solmat.2022.112005
8. А. Л. Степанов, В. И. Нуждин, А. М. Рогов, В. В. Воробьев. Формирование слоев пористого кремния и германия с металлическими наночастиами, Казань, ФИЦПРЕСС (2019)
9. D. P. Datta, T. Som. Solar Energy, 223 (2021) 367—375, doi: 10.1016/j.solener.2021.05.016
10. R. Böttger, K.-H. Heinig, L. Bischoff. Appl. Phys. A, 113 (2013) 53—59, doi: 10.1007/s00339-0137911-0
11. А. Л. Степанов, В. И. Нуждин, В. Ф. Валеев, А. М. Рогов, Д. А. Коновалов. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 7 (2024) 83—90, doi: 10.31857/S1028096024070119 [A. L. Stepanov, V. I. Nuzhdin, V. F. Valeev, A. M. Rogov, D. A. Konovalov. J. Surf. Investigation, 18 (2024) 834—840], doi: 10.1134/S1027451024700526
12. A. L. Stepanov, V. A. Zhikharev, D. E. Hole, P. D. Townsend, I. B. Khaibullin. Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B, 166 (2000) 26—30, https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0168583X99006412
13. T. M. Donovan, W. E. Spicer, J. M. Bennett, E. J. Ashley. Phys. Rev. B, 2 (1970) 397—413
14. Я. Тауц. УФН, 94, № 3 (1968) 501—534 [J. Tauc. Progr. Semiconductors, 9 (1965) 89—122], doi: 10.3367/UFNr.0094.196803e.0501
15. H. Liu, S. Li, P. Sun, X. Yang, D. Liu, Y. Ji, F. Zhang, D. Chen, Y. Cui. Mater. Sci. Semicond. Processing, 83 (2018) 58—62, doi: 10.1016/j.mssp.2018.04.019
16. S. Koffel, P. Scheiblin, A. Claverie, G. Benassayag. J. Appl. Phys., 105 (2009) 13528(1—6), doi: 10.1063/1.3041653
17. M. Steglich, T. Kasebier, E.-B. Kley, A. Tunnermann. Appl. Phys., A, 122 (2016) 836(1—5), doi: 10.1007/s00339-016-0318-y
18. A. L. Stepanov, B. F. Farrakhov, Ya. V. Fattakhov, A. M. Rogov, D. A. Konovalov, V. I. Nuzhdin, V. F. Valeev. Vacuum, 186 (2021) 110060(1—5), doi: 10.1016/j.vacuum.2021.110060
19. K. Chen, J. Isometsa, T.P. Pasanen, V. Vahanissi, H. Savin. Nanotechnology, 32 (2021) 35301(1—7), doi: 10.1088/1361-6528/abbeac