Тонкопленочное покрытие с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе слоя нанопористого германия

Степанов А. Л., Рогов А. М., Сотникова В. Ф., Валеев В. Ф., Нуждин В. И., Коновалов Д. А.
2025

Предложен метод получения покрытия с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе нанопористых слоев германия (Ge), основанный на имплантации ионами 209Bi++ монокристаллического c-Ge при энергии E = 72 кэВ, плотности тока в ионном пучке J = 5 мкA/см2 и интервале доз D = 1.3 ꞏ 1015—2.5 >ꞏ 1016 ион/см2. Установлено, что, начиная с D = 6.2 · 1015 ион/см2, формируется вспученный губчатый слой Bi:PGe толщиной порядка 100 нм, состоящий из тонких переплетающихся нанонитей Ge, который не меняет свои морфологические особенности с ростом D. Данный слой характеризуется низким коэффициентом оптического отражения (< 3 %) в видимом диапазоне спектра.

Степанов А. Л., Рогов А. М., Сотникова В. Ф., Валеев В. Ф., Нуждин В. И., Коновалов Д. А. Тонкопленочное покрытие с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе слоя нанопористого германия. Журнал прикладной спектроскопии. 2025;92(5):674-678.
Цитирование

Список литературы

Похожие публикации

Источник