17 Степанов А. Л. Рогов А. М. Сотникова В. Ф. Валеев В. Ф. Нуждин В. И. Коновалов Д. А. нанопористый германий имплантация ионами висмута антиотражающее оптическое покрытие 2025 2025-09-26 Журнал прикладной спектроскопии Предложен метод получения покрытия с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе нанопористых слоев германия (Ge), основанный на имплантации ионами 209Bi++ монокристаллического c-Ge при энергии E = 72 кэВ, плотности тока в ионном пучке J = 5 мкA/см2 и интервале доз D = 1.3 ꞏ 1015—2.5 >ꞏ 1016 ион/см2. Установлено, что, начиная с D = 6.2 · 1015 ион/см2, формируется вспученный губчатый слой Bi:PGe толщиной порядка 100 нм, состоящий из тонких переплетающихся нанонитей Ge, который не меняет свои морфологические особенности с ростом D. Данный слой характеризуется низким коэффициентом оптического отражения (< 3 %) в видимом диапазоне спектра. https://www.academjournals.by/publication/19913 https://www.academjournals.by/files/19806