@article{Степанов А. Л.2025-09-26,
author = { Степанов А. Л.,  Рогов А. М.,  Сотникова В. Ф.,  Валеев В. Ф.,  Нуждин В. И.,  Коновалов Д. А.},
title = {Тонкопленочное покрытие с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе слоя нанопористого германия},
year = {2025},
publisher = {NP «NEICON»},
abstract = {Предложен метод получения покрытия с пониженным коэффициентом оптического отражения на основе нанопористых слоев германия (Ge), основанный на имплантации ионами 209Bi++ монокристаллического c-Ge при энергии E = 72 кэВ, плотности тока в ионном пучке J = 5 мкA/см2 и интервале доз D = 1.3 ꞏ 1015—2.5 >ꞏ 1016 ион/см2. Установлено, что, начиная с D = 6.2 · 1015 ион/см2, формируется вспученный губчатый слой Bi:PGe толщиной порядка 100 нм, состоящий из тонких переплетающихся нанонитей Ge, который не меняет свои морфологические особенности с ростом D. Данный слой характеризуется низким коэффициентом оптического отражения (< 3 %) в видимом диапазоне спектра.},
URL = {https://www.academjournals.by/publication/19913},
eprint = {https://www.academjournals.by/files/19806},
journal = {Журнал прикладной спектроскопии},
}