Фотоэлектрические характеристики гетероструктур SiC/Si

Лобанок М. В., Полонский Н. В., Гайдук П. И.
2023

Эпитаксиальные слои SiC толщиной 80 нм на Si-подложке выращены методом молекулярнолучевой эпитаксии при 950 °C. Спектры комбинационного рассеяния света содержат пик при 793 см–1, что соответствует поперечной оптической фононной моде кубического политипа SiC. Показано, что увеличение фототока в областях 1.25—1.4 и 1.5—2.0 эВ связано с дефектами в гетероструктуре SiC/Si. Обнаружено, что спектры фотолюминесценции гетероструктур SiC/Si и Pt2Si/SiC/Si содержат две основные полосы излучения в синей (2.8 эВ) и красной (1.9 эВ) областях.

Лобанок М. В., Полонский Н. В., Гайдук П. И. Фотоэлектрические характеристики гетероструктур SiC/Si. Журнал прикладной спектроскопии. 2023;90(5):775-779.
Цитирование

Список литературы

Похожие публикации

Источник