ПОЛЯРИЗУЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ, ИЗГОТОВЛЕННОЕ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ШИРОКОПОЛОСНОГО СПЕКТРАЛЬНОГО МОНИТОРИНГА

Lv Q.; Deng S.; Li Ch.; Huangm M.; Li G.; Jin Y.

ПОЛЯРИЗУЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ, ИЗГОТОВЛЕННОЕ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ШИРОКОПОЛОСНОГО СПЕКТРАЛЬНОГО МОНИТОРИНГА

Lv Q. , Deng S. , Li Ch. , Huangm M. , Li G. , Jin Y.

2019

Представлен метод контроля толщины покрытия, основанный на использовании широкополосного спектрального мониторинга. Разработано поляризующее покрытие, функционирующее на λ = 1550 нм при угле падения света 45º. Оптимизированная структура покрытия содержит 59 слоев, не являющихся четвертьволновыми. На стадии подготовки образца с целью оценки преимуществ метода широкополосного спектрального мониторинга выполнен анализ погрешностей. Поляризующее покрытие нанесено методом ионно-лучевого напыления с использованием оптимизированного метода мониторинга. Осуществлен реверс-инжиниринг изготовленного покрытия. Получено хорошее соответствие измеренного пропускания с теоретически предсказанным, причем максимальное отклонение между ними в первых и последних двух слоях ~10%, а минимальное ~0.01%.

Lv Q. , Deng S. , Li Ch. , Huangm M. , Li G. , Jin Y. ПОЛЯРИЗУЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ, ИЗГОТОВЛЕННОЕ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ШИРОКОПОЛОСНОГО СПЕКТРАЛЬНОГО МОНИТОРИНГА. Журнал прикладной спектроскопии. 2019;86(6):1009(1)-1009(7).

Цитирование

Список литературы

1. B. Vidal, E. Pelletier. Appl. Opt., 18, No. 22, 3857–3862 (1979).

2. B. Vidal, A. Fornier, E. Pelletier. Appl. Opt., 17, No. 7, 1038–1047 (1978).

3. M. Lappschies, B. Görtz, D. Ristau. Appl. Opt., 45, No. 7, 1502–1506 (2006).

4. J. Zhang, M. Fang, Y. Jin, H. He. Chin. Phys. B, 21, No. 1, 199–203 (2012).

5. W. Kong, Z. Shen, S. Wang, J. Shao, Z. Fan, C. Lu. Chin. Phys. B, 19, No. 4, 304–308 (2010).

6. H. A. Macleod. Appl. Opt., 20, No. 1, 82–89 (1981).

7. O. Lyngnes, U. Brauneck, J. Wang, R. Erz, S. Kohli, B. Rubin, J. Kraus, D. Deakins. Proc. SPIE, 962715, 962715–962718 (2015).

8. C. J. Laan. Appl. Opt., 25, No. 5, 753–760 (1986).

9. J. Zhang, C. Cao, A. V. Tikhonravov, M. K. Trubetskov, A. Gorokh, X. Cheng, Z. Wang. Appl. Opt., 54, No. 11, 3433–3439 (2015).

10. F. Lai, X. Wu, B. Zhuang, Q. Yan, Z. Huang. Opt. Express, 16, No. 13, 9436–9442 (2008).

11. B. Badoil, F. Lemarchand, M. Cathelinaud, M. Lequime. Appl. Opt., 46, No. 20, 4294–4303 (2007).

12. A. V. Tikhonravov, M. K. Trubetskov, T. V. Amotchkina. Appl. Opt., 50, No. 9, C111-C116 (2011).

13. L. Li, Y. Yen. Appl. Opt., 28, No. 14, 2889–2894 (1989).

14. B. Vidal, A. Fornier, E. Pelletier. Appl. Opt., 18, No. 22, 3851–3856 (1979).

15. Q. P. Lv, S. W. Deng, S. Q. Zhang, F. Q. Gong, G. Li. Chin. Phys. B, 26, No. 5, 057801 (2017).

16. H. Tao, Y. Wu, J. Chen, Y. Kong, Y. Chen, B. Sun, C. Xu, P. Zhou, J. Qiu, Y. Zheng. Rev. Sci. Instrum., 76, No. 8, 083118–083114 (2005).

17. V. G. Zhupanov, E. V. Klyuev, S. V. Alekseev, I. V. Kozlov, M. K. Trubetskov, M. A. Kokarev, A. V. Tikhonravov. Appl. Opt., 48, No. 12, 2315–2320 (2009).

18. G. X. Liang, P. Fan, J. G. Hu, J. Zhao, X. H. Zhang, Z. K. Luo, H. L. Ma, J. T. Luo, Z. H. Zheng, D. P. Zhang. Solar Energy, 136, 650–658 (2016).

19. G. X. Liang, P. Fan, X. M. Cai, D. P. Zhang, and Z. H. Zheng. J. Electron. Mater., 40, No. 3, 267–273 (2011).

20. I. W. Martin, R. Nawrodt, K. Craig, C. Schwarz, R. Bassiri, G. Harry, J. Hough, S. Penn, S. Reid, R. Robie, S. Rowan. Classical Quant. Grav., 31, No. 3, 035019 (2014).

21. J. T. Brown. Appl. Opt., 43, No. 23, 4506–4511 (2004).

22. Q. Cai, Y. Zheng, D. Zhang, W. Lu, R. Zhang, W. Lin, H. Zhao, L. Chen. Opt. Express, 19, No. 14, 12969–12977 (2011).

23. A. V. Tikhonravov, M. K. Trubetskov, T. V. Amotchkina. Appl. Opt., 45, No. 27, 7026–7034 (2006).

Источник

Информация

Автор

Lv Q. Даляньский институт химической физики Китайской АН; Даляньский технологический университет
Deng S. Даляньский институт химической физики Китайской АН
Li Ch. Бюро научно-исследовательских программ Китайской АН
Huangm M. Даляньский технологический университет
Li G. Даляньский институт химической физики Китайской АН
Jin Y. Даляньский институт химической физики Китайской АН

Страницы

1009(1)-1009(7)

Год издания

2019

Ключевые слова

Коллекции

Журнал прикладной спектроскопии