RT - article
SR - Electronic
T1 - ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ
JF - Доклады Национальной академии наук Беларуси
SP - 2018-01-21
A1 - Климович И. М., 
A1 - Романов И. А., 
A1 - Комаров Ф. Ф., 
A1 - Зайков В. А., 
A1 - Власукова Л. А., 
A1 - Осин Ю. Н., 
A1 - Рогов А. М., 
A1 - Воробьев В. В., 
A1 - Степанов А. Л., 
YR - 2017
UL - https://www.academjournals.by/publication/2837
AB - Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии, а также спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики тонких Si-покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Показано, что при контролируемой вариации технологических параметров магнетронного распыления таких, как температура подложки и потенциал смещения, можно менять морфологию поверхности пленок Si. Для некоторых режимов осаждения обнаружено появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений, изменения положения минимумов и максимумов в оптических спектрах отражения и пропускания.