PT - JOURNAL ARTICLE
AU - Климович И. М., 
AU - Романов И. А., 
AU - Комаров Ф. Ф., 
AU - Зайков В. А., 
AU - Власукова Л. А., 
AU - Осин Ю. Н., 
AU - Рогов А. М., 
AU - Воробьев В. В., 
AU - Степанов А. Л., 
TI - ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ
DP - 2018-01-21
TA - Доклады Национальной академии наук Беларуси
SO - https://www.academjournals.by/publication/2837
AB - Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии, а также спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики тонких Si-покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Показано, что при контролируемой вариации технологических параметров магнетронного распыления таких, как температура подложки и потенциал смещения, можно менять морфологию поверхности пленок Si. Для некоторых режимов осаждения обнаружено появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений, изменения положения минимумов и максимумов в оптических спектрах отражения и пропускания.