<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Климович И. М.</author>
     <author>Романов И. А.</author>
     <author>Комаров Ф. Ф.</author>
     <author>Зайков В. А.</author>
     <author>Власукова Л. А.</author>
     <author>Осин Ю. Н.</author>
     <author>Рогов А. М.</author>
     <author>Воробьев В. В.</author>
     <author>Степанов А. Л.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>магнетронное осаждение</keyword>
    <keyword>Si-покрытия</keyword>
    <keyword>атомно-силовая микроскопия</keyword>
    <keyword>сканирующая электронная микроскопия</keyword>
    <keyword>спектры отражения и пропускания</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2017</year>
    <pub-dates>
     <date>2018-01-21</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <journal>Доклады Национальной академии наук Беларуси</journal>
   <abstract>Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии, а также спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики тонких Si-покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Показано, что при контролируемой вариации технологических параметров магнетронного распыления таких, как температура подложки и потенциал смещения, можно менять морфологию поверхности пленок Si. Для некоторых режимов осаждения обнаружено появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений, изменения положения минимумов и максимумов в оптических спектрах отражения и пропускания. </abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/2837</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/2821</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
