%0 article
%A Климович И. М., 
%A Романов И. А., 
%A Комаров Ф. Ф., 
%A Зайков В. А., 
%A Власукова Л. А., 
%A Осин Ю. Н., 
%A Рогов А. М., 
%A Воробьев В. В., 
%A Степанов А. Л., 
%T ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ
%D 2017
%J Доклады Национальной академии наук Беларуси
%X Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии, а также спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики тонких Si-покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Показано, что при контролируемой вариации технологических параметров магнетронного распыления таких, как температура подложки и потенциал смещения, можно менять морфологию поверхности пленок Si. Для некоторых режимов осаждения обнаружено появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений, изменения положения минимумов и максимумов в оптических спектрах отражения и пропускания. 
%U https://www.academjournals.by/publication/2837