@article{Климович И. М.2018-01-21,
author = { Климович И. М.,  Романов И. А.,  Комаров Ф. Ф.,  Зайков В. А.,  Власукова Л. А.,  Осин Ю. Н.,  Рогов А. М.,  Воробьев В. В.,  Степанов А. Л.},
title = {ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ},
year = {2017},
publisher = {NP «NEICON»},
abstract = {Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии, а также спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики тонких Si-покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Показано, что при контролируемой вариации технологических параметров магнетронного распыления таких, как температура подложки и потенциал смещения, можно менять морфологию поверхности пленок Si. Для некоторых режимов осаждения обнаружено появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений, изменения положения минимумов и максимумов в оптических спектрах отражения и пропускания. },
URL = {https://www.academjournals.by/publication/2837},
eprint = {https://www.academjournals.by/files/2821},
journal = {Доклады Национальной академии наук Беларуси},
}