<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Коршунов Ф. П.</author>
     <author>Ластовский С. Б.</author>
     <author>Якушевич А. С.</author>
     <author>Маркевич В. П.</author>
     <author>Мурин Л. И.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Влияние положения уровня Ферми  на отжиг дефекта межузельный атом углерода в кремнии</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>кремний</keyword>
    <keyword>облучение</keyword>
    <keyword>дефекты</keyword>
    <keyword>отжиг</keyword>
    <keyword>межузельные атомы углерода</keyword>
    <keyword>зарядовое состояние</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2018</year>
    <pub-dates>
     <date>2018-10-29</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-8323-2018-62-5-540-545</doi>
   <journal>Доклады Национальной академии наук Беларуси</journal>
   <abstract>Методом DlTS изучено влияние зарядового состояния межузельного углерода (Сi ) на кинетику его отжига в облученных быстрыми электронами и α-частицами п+–р-структурах, изготовленных на кристаллах кремния, легированных бором (NB = 5 · 1013 и 2,5 · 1015 см–3). Отжиги проводились как с приложением обратного смещения, так и без смещения. Показано, что в положительном зарядовом состоянии дефекта энергия активации отжига составляет ΔE = 0,88 эВ, а в нейтральном зарядовом состоянии ΔE = 0,73 эВ. Отличаются и значения частотных факторов, даже при одной и той же концентрации стоков для Сi.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/2720</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/2704</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
