PT - JOURNAL ARTICLE
AU - Комаров Ф. Ф., 
AU - Нечаев Н. С., 
AU - Пархоменко И. Н., 
AU - Ивлев Г. Д., 
AU - Власукова Л. А., 
AU - Пилько В. В., 
AU - Вендлер Э. , 
AU - Комаров А. Ф., 
TI - Формирование фотоприемных структур ИК-диапазона путем пересыщения кремния теллуром
DP - 2019-09-12
TA - Доклады Национальной академии наук Беларуси
4100 - 10.29235/1561-8323-2019-63-4-430-436
SO - https://www.academjournals.by/publication/2613
AB - Слои кремния, легированные теллуром до концентраций (3–5)1020 см–3, получены ионной имплантацией с последующим импульсным лазерным отжигом. Показано, что 70–90 % внедренной примеси находится в позиции замещения в решетке кремния. Слои, гиперпересыщенные теллуром, проявляют существенное поглощение (35–66 %) в области длин волн 1100–2500 нм, причем коэффициент поглощения увеличивается с ростом длины волны. Проведено сравнение спектров поглощения имплантированных слоев после лазерного отжига, а также после равновесного и быстрого термического отжигов. Показано, что равновесный отжиг после имплантации ионов теллура увеличивает поглощение фотонов в области длин волн 1100–2500 нм на 4 % по сравнению с неимплантированным кремнием. После быстрого термического отжига поглощение в ИК-области возрастает лишь на 2 %.