<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Романов И. А.</author>
     <author>Комаров Ф. Ф.</author>
     <author>Власукова Л. А.</author>
     <author>Пархоменко И. Н.</author>
     <author>Ковальчук Н. С.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Процессы деградации электролюминесценции светоизлучающих структур на основе тонких пленок оксида и нитрида кремния</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>нитрид кремния</keyword>
    <keyword>оксид кремния</keyword>
    <keyword>электролюминесценция</keyword>
    <keyword>светоизлучающие структуры</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2021</year>
    <pub-dates>
     <date>2021-05-08</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-8323-2021-65-2-158-167</doi>
   <journal>Доклады Национальной академии наук Беларуси</journal>
   <abstract>Одно-, двух- и трехслойные светоизлучающие композиции SiO2 /Si, SiN1,2/SiO2 /Si и SiO2 /SiN0,9/SiO2 /Si изготовлены на кремниевых подложках p-типа методами химического осаждения из газовой фазы и термооксидирования кремния. Элементный состав и толщины диэлектрических слоев изучены методами резерфордовского обратного рассеяния, растровой электронной микроскопии и спектральной эллипсометрии. Для изучения электролюминесценции (ЭЛ) использовалась система «электролит–диэлектрик–полупроводник», регистрация спектров ЭЛ проводилась в гальваностатическом режиме при положительном смещении кремниевой подложки. На спектрах ЭЛ образца SiO2 /Si проявляется интенсивная полоса с максимумом 1,9 эВ, спектры ЭЛ образцов SiN1,2/SiO2 /Si и SiO2 / SiN0,9/SiO2 /Si характеризуются наличием полос с максимумами при 1,9, 2,3 и 2,7 эВ. Обсуждается природа этих полос. Пропускание через образец SiO2 /SiN0,9/SiO2 /Si заряда в диапазоне 100–500 мКл/см2 приводит к увеличению интенсивности ЭЛ всех регистрируемых полос. После пропускания через образец с трехслойной диэлектрической пленкой заряда величиной 1 Кл/см2 интенсивность ЭЛ уменьшается, что объяснено деградацией верхнего слоя оксида кремния. Проведенные исследования позволяют сделать вывод, что нитрид кремния, нанесенный поверх слоя SiO2 , предохраняет слой SiO2 от полевой деградации и преждевременного пробоя. Наиболее стабильной электролюминесценцией при воздействии сильного электрического поля характеризуется структура SiN1,2/SiO2 /Si.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/2399</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/2397</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
