<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Hani M. Y.</author>
     <author>Al-Rawaf A. F.</author>
     <author>Hasan A. A.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Оптические свойства полученных плазменно-ассистированным методом нанокомпозитов на основе оксида графена</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>оксид графена</keyword>
    <keyword>нанокомпозит</keyword>
    <keyword>плазма</keyword>
    <keyword>энергетическая щель</keyword>
    <keyword>оптические свойства</keyword>
    <keyword>TiO2</keyword>
    <keyword>SiO2</keyword>
    <keyword>ZnO</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2026</year>
    <pub-dates>
     <date>2026-09-28</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <journal>Журнал прикладной спектроскопии</journal>
   <abstract>Нанокомпозиты GO-SiO2, GO-TiO2 и GO-ZnO синтезированы золь-гель методом с использованием ультразвукового диспергирования, а затем нанесены на стеклянные подложки методом пиролиза аэрозолей и плазменного спрей-пиролиза с целью исследования влияния активации плазмой атмосферного давления на морфологическую эволюцию и электронную зонную структуру этих нанокомпозитов. Результаты рентгенодифракционного анализа (XRD) и ИК-спектроскопии (FTIR) показали, что плазменная обработка вызывает частичное восстановление оксида графена (GO) до восстановленного оксида графена (rGO) (на это указывает пик при 2θ = 27°) и увеличивает плотность кислородсодержащих функциональных групп, что приводит к значительному улучшению межфазной адгезии и стабильности. Отсутствие отчетливых пиков оксидов металлов на рентгенограммах свидетельствует об их существовании в аморфном или ультратонком нанокристаллическом состоянии. Сканирующая электронная микроскопия с полевой эмиссией и энергодисперсионная рентгеновская спектроскопия подтвердили равномерное распределение частиц SiO2, TiO2 и ZnO, при этом плазма предотвратила локальную агрегацию. Исследование оптических свойств с помощью УФ-видимой и фотолюминесцентной (ФЛ) спектроскопии показало, что плазменная обработка существенно повлияла на электронную структуру, уменьшив энергетическую щель (Eg) с 2.18 и 2.87 эВ до 1.15 и 1.50 эВ для GO-SiO2 и GO-TiO2 соответственно. Образцы, обработанные плазмой, продемонстрировали более высокую интенсивность ФЛ, что свидетельствует об усилении радиационной рекомбинации и делает эти материалы подходящими для люминесцентных слоев, смещающих частоту излучения. В этом качестве пленки действуют как спектральные преобразователи, оптимизирующие спектральный отклик фотоэлектрических систем, что позволяет их применять в передовых оптоэлектронных и сенсорных устройствах.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/21253</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/21100</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
