Фоточувствительный полимерный материал для объемно- и рельефно-фазовой голографической записи в широкой спектральной области
Показано, что фазовый отклик нового полимера с боковыми антраценовыми группами создается их фотоокислением и фотодимеризацией. Обе фотореакции приводят к приблизительно одинаковой фоторефракции в объеме (Δn » –0.02 для λ = 633 нм) и образованию на поверхности слоя фоторельефа. Оценка глубины модуляции показателя преломления в структуре двумерных голографических решеток указывает на возможность достижения максимальной дифракционной эффективности, которая для трехмерных решеток ограничивается их несинусоидальностью. Показано, что полимер и его композиции с различными фотосенсибилизаторами в тонких (~1 мкм) слоях эффективно формируют поверхностные фоторельефы с пространственной частотой до 1000 мм–1 и амплитудой до 25 % от толщины слоя при использовании постэкспозиционной обратимой пластификации. Экспериментально установлено, что устойчивость поверхностных фоторельефов к действию температур более 90 °C может быть многократно увеличена фотосшиванием материала сформированной рельефной структуры.
