<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Машин Н. И.</author>
     <author>Разуваев А. Г.</author>
     <author>Черняева Е. А.</author>
     <author>Гафарова Л. М.</author>
     <author>Ершов А. В.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>УЧЕТ ВЗАИМНОГО ВЛИЯНИЯ ЭЛЕМЕНТОВ ПРИ РЕНТГЕНОФЛУОРЕСЦЕНТНОМ АНАЛИЗЕ ТОНКИХ ДВУХСЛОЙНЫХ Ti/V-СИСТЕМ</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>рентгенофлуоресцентный анализ</keyword>
    <keyword>тонкая двухслойная пленка</keyword>
    <keyword>поправочный коэффициент</keyword>
    <keyword>массовый коэффициент поглощения</keyword>
    <keyword>подложка из пленки полимера</keyword>
    <keyword>X-ray fluorescence analysis</keyword>
    <keyword>thin two-layer film</keyword>
    <keyword>correction coefficient</keyword>
    <keyword>absorption coefficient</keyword>
    <keyword>polymer substrate</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2018</year>
    <pub-dates>
     <date>2025-03-12</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <journal>Журнал прикладной спектроскопии</journal>
   <abstract>Предложен новый способ определения толщины слоев при рентгенофлуоресцентном анализе двухслойных систем Ti/V с использованием простых в изготовлении унифицированных пленочных слоев, получаемых напылением титана на подложку из пленки полимера. Рассчитаны поправочные коэффициенты, учитывающие уровень ослабления интенсивности первичного излучения рентгеновской трубки и аналитической линии элемента нижнего слоя в верхнем слое и усиления интенсивности флуоресценции верхнего слоя излучением атомов нижнего. </abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/16179</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/16133</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
