RT - article
SR - Electronic
T1 - МЕХАНИЗМ АДГЕЗИОННОГО ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ПЛЕНОК ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА С МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИМ КРЕМНИЕМ
JF - Журнал прикладной спектроскопии
SP - 2020-09-17
A1 - Бринкевич С. Д., 
A1 - Гринюк Е. В., 
A1 - Бринкевич Д. И., 
A1 - Свердлов Р. Л., 
A1 - Просолович В. С., 
A1 - Петлицкий А. Н., 
YR - 2020
UL - https://www.academjournals.by/publication/15905
AB - Методом ИК-Фурье-спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения исследованы радиационно-индуцированные процессы, протекающие при имплантации ионов бора и фосфора в пленки позитивного диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 на кремнии. Установлено, что усиление адгезии резиста к монокристаллическому кремнию обусловлено образованием сложноэфирных сшивок между гидроксильными группами на поверхности оксидного слоя кремниевой пластины и карбоксильной группой 1-Н-инден-3-карбоновой кислоты.