17 Chang Y.-C. Wu P.-Y. Jhuang J.-C. Huang C. плазма атмосферного давления химическое осаждение из газовой фазы рост пленки оптическая эмиссия 2021 2021-10-10 Журнал прикладной спектроскопии Исследованы характерные особенности свечения при низкотемпературном высокочастотном плазмохимическом осаждении из газовой фазы в среде CH4/Ar и его корреляция с характеристиками пленки, полученной плазменным напылением. Данные диагностики оптической эмиссионной спектроскопии и результаты осаждения показали, что во время тлеющего разряда CH4/Ar частицы CH и C2 возникают в результате диссоциации молекул CH4 под действием электронов низкой энергии, которые образуют частицы осаждения. Однако сильные линии излучения Ar связаны с неосажденными частицами, такими как атом аргона. Результаты оптико-эмиссионного анализа показали, что возможный вклад в рост пленки, осажденной плазмой атмосферного давления, происходит в первую очередь за счет комбинации диссоциации электронным ударом и ионизации. https://www.academjournals.by/publication/15777 https://www.academjournals.by/files/15731