<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Тихий А. А.</author>
     <author>Свиридова Е. А.</author>
     <author>Жихарева Ю. И.</author>
     <author>Жихарев И. В.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Оптические и рентгеновские исследования пленок оксида индия на сапфировых подложках</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>оксид индия</keyword>
    <keyword>тонкая пленка</keyword>
    <keyword>эллипсометрия</keyword>
    <keyword>оптическое пропускание</keyword>
    <keyword>рентгеноструктурный анализ</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2021</year>
    <pub-dates>
     <date>2021-10-10</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <journal>Журнал прикладной спектроскопии</journal>
   <abstract>Представлены результаты эллипсометрических, рентгеноструктурных и спектральных исследований пленок In2O3, полученных методом dc-магнетронного распыления на подложках Al2O3 (012). Интерпретация данных проведена в рамках трехслойной модели пленки. Предположено, что в начале напыления на поверхности подложки формируются крупные частицы материала, затем размер кристаллитов становится меньше и они заполняют промежутки между более крупными частицами, после чего процесс формирования пленки переходит в стационарный режим. На границе раздела между пленкой и подложкой установлено наличие переходного слоя с шириной запрещенной зоны 1.39 эВ, показателем преломления ~3 и толщиной 25 нм. Свойства этого слоя не зависят от времени напыления.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/15761</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/15717</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
