@article{Бринкевич Д. И.2023-11-23,
author = { Бринкевич Д. И.,  Гринюк Е. В.,  Бринкевич С. Д.,  Просолович В. С.,  Колос В. В.,  Зубова О. А.,  Ластовский С. Б.},
title = {Инфракрасная Фурье-спектроскопия структур фоторезист/кремний, используемых для обратной литографии},
year = {2023},
publisher = {NP «NEICON»},
abstract = {Методом ИК-Фурье-спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения исследованы пленки фоторезиста (ФР) NFR 016D4, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. Установлено, что при волновых числах <1600 см–1 наблюдается возрастание фонового поглощения структур ФР/Si, обусловленное воздействием электромагнитного излучения на кремниевую подложку и процессами рассеяния/отражения на границе раздела ФР/Si. Обнаружена асимметричность силового поля ароматического кольца в пленке NFR 016D4. Показано, что особенности спектров пленок ФР NFR 016D4 с большей толщиной обусловлены наличием остаточного растворителя. В облученных пленках обнаружено образование формальдегида в результате фрагментации гидроксиметильных остатков в составе фенолформальдегидной смолы. Радиационно-индуцированные процессы в фоторезистивных пленках NFR 016D4 при дозах до 2 ∙ 1015 см–1 происходят в основном при участии молекул остаточного растворителя либо на побочных продуктах синтеза фоторезистивной пленки.},
URL = {https://www.academjournals.by/publication/15404},
eprint = {https://www.academjournals.by/files/15363},
journal = {Журнал прикладной спектроскопии},
}