<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Василец В. К.</author>
     <author>Хмыль А. А.</author>
     <author>Кушнер Л. К.</author>
     <author>Кузьмар И. И.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>ВЛИЯНИЕ РЕЖИМА ЭЛЕКТРОЛИЗА НА ОБРАЗОВАНИЕ «УСОВ» В ПОКРЫТИЯХ НА ОСНОВЕ ОЛОВА</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>бессвинцовые сплавы</keyword>
    <keyword>нестационарный электролиз</keyword>
    <keyword>«усы»</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2017</year>
    <pub-dates>
     <date>2017-08-08</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-технических наук</journal>
   <abstract>Статья посвящена исследованию потенциальных дефектов, которые могут появиться в тонкопленочных электрохимических покрытиях на основе олова, не содержащих свинца, при их длительном хранении. Целью исследования является разработка технологических режимов электролиза, обеспечивающих минимизацию вероятности появления таких дефектов и надежную работу радиоэлектронной аппаратуры. Рассмотрены проблемы применения олова и бессвинцовых сплавов на его основе в радиоэлектронике, а также методы борьбы с такими потенциальными дефектами, как образование «усов». Для контроля роста «усов» в послеэлектролизный период (12 месяцев естественного старения в условиях лаборатории) было выбрано покрытие Sn-Bi, которое формировали с использованием как постоянного, так и импульсно-реверсированного токов. На основании результатов, полученных с помощью растрового электронного микроскопа, установлено, что осаждение сплава с использованием импульсного и реверcированного тока не только улучшает структуру формируемых покрытий, но и существенно снижает склонность к образованию «усов», их длину и плотность на единицу площади в сравнении с покрытиями, полученными на постоянном токе. Установлены возможные причины достижения высокого качества электрохимических покрытий сплавом Sn-Bi. Наиболее медленный рост «усов» отмечен на реверсированном токе со средней плотностью i ср = 2 А/дм2, частоте f = 1 Гц и коэффициенте заполнения γ = 1,5. </abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/13555</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/13521</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
