<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Оджаев В. Б.</author>
     <author>Панфиленко А. К.</author>
     <author>Петлицкий А. Н.</author>
     <author>Просолович В. С.</author>
     <author>Шведов С. В.</author>
     <author>Филипеня В. А.</author>
     <author>Явид В. Ю.</author>
     <author>Янковский Ю. Н.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>ВЛИЯНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРИМЕСЕЙ НА ВОЛЬТ-АМПЕРНЫЕ  ХАРАКТЕРИСТИКИ БИПОЛЯРНОГО n–p–n-ТРАНЗИСТОРА</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>вольт-амперные характеристики</keyword>
    <keyword>обратный ток p–n-перехода</keyword>
    <keyword>напряжение пробоя p–n-пере- хода</keyword>
    <keyword>биполярный транзистор</keyword>
    <keyword>технологические примеси</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2018</year>
    <pub-dates>
     <date>2018-07-03</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-8358-2018-63-2-244-249</doi>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-технических наук</journal>
   <abstract>Загрязнение монокристаллического кремния технологическими примесями в процессе изготов- ления приборов оказывает существенное влияние на электрофизические характеристики биполярных n–p–n-тран- зисторов. Выявление причин лабильной воспроизводимости основных характеристик биполярных планарных n–p–n-транзисторов является актуальным с целью установления факторов, определяющих надежность и стабильность эксплуатационных параметров интегральных микросхем. Исследованы вольт-амперные характеристики различных партий биполярных n–p–n-транзисторов, изготовленных по эпитаксиально-планарной технологии по аналогичным технологическим маршрутам, при идентичных используемых технологических материалах, однако в различное время. Установлено, что электрофизические характеристики биполярных n–p–n-транзисторов существенным образом зависят от содержания технологических примесей в материале подложки. Наличие высокой концентрации генерационно-рекомбинационных центров, связанных с металлическими примесями, приводит как к увеличению обратного тока через переход коллектор–база транзисторов, так и к существенному снижению напряжения пробоя коллек- торного перехода. Наиболее вероятной причиной ухудшения электрофизических параметров биполярных n–p–nтранзисторов является загрязнение материала технологическими примесями (такими, как Fe, Cl, Ca, Cu, Zn и др.) во время производственного процесса изготовления приборов. Источниками загрязнений могут служить как детали и узлы технологических установок, так и используемые материалы и реактивы.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/13510</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/13476</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
