<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Коршунов Ф. П.</author>
     <author>Жданович Н. Е.</author>
     <author>Гуринович В. А.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Влияние радиационно-термических дефектов на характеристики p-n-p-n-структур</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>радиационный дефект</keyword>
    <keyword>радиационно-термический дефект</keyword>
    <keyword>быстрые электроны</keyword>
    <keyword>время жизни неосновных носителей заряда</keyword>
    <keyword>тиристор</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2018</year>
    <pub-dates>
     <date>2018-10-31</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-2430-2018-54-3-353-359</doi>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук</journal>
   <abstract>Приводятся результаты исследования влияния радиационных дефектов (РД) и термостабильных (до 873 К) радиационно-термических дефектов (РТД), введенных электронным облучением с энергией 4 МэВ и термообработкой, на статические и динамические характеристики кремниевых p-n-p-n-структур. Получены зависимости тока включения и тока выключения от времени жизни неосновных носителей заряда (ННЗ) при высоком уровне инжекции в широкой n-базе структур с РД и РТД и аналогичные зависимости времени жизни ННЗ при высоком уровне инжекции от времени жизни при низком уровне инжекции. На измеренных DLTS-спектрах структур идентифицированы следующие уровни дефектов: Еc– 0,18 эВ принадлежит комплексу вакансия-кислород V– O (А-центр), Еv + 0,36 эВ – комплексу углерод внедрения – кислород внедрения Сi Oi и Еc– 0,25 эВ и Еc– 0,41 эВ – комплексу дивакансия V2 в двукратно и однократно отрицательно заряженных состояниях соответственно, а уровни Еc – 0,39 эВ и Еv + 0,30 эВ предположительно дефектам V3O и СiO2i . Рекомбинационным уровнем, определяющим скорость переключения структур с РД, является уровень Ec– 0,18 эВ, а у структур с РТД – уровень Ev + 0,39 эВ. Показано, что токи включения и выключения больше у структур с радиационно-термическими, чем с радиационными дефектами, что увеличивает стойкость тиристорных структур с РТД к различным помехам и эффекту dU/dt. Полученные температурные зависимости тока управления и напряжения управления p-n-p-n-структур в диапазоне температур 77–320 К показывают возможность их использования в схемах в сочетании с высокотемпературными сверхпроводниками.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/12932</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/12898</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
