<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Огородников Д. А.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Моделирование накопления заряда в кремниевых фотоэлектронных умножителях под воздействием мягкого рентгеновского излучения</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>кремниевый фотоэлектронный умножитель</keyword>
    <keyword>граница раздела Si/SiO2</keyword>
    <keyword>внешнее электрическое поле</keyword>
    <keyword>накопленный заряд</keyword>
    <keyword>рентгеновское излучение</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2022</year>
    <pub-dates>
     <date>2022-10-13</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-2430-2022-58-3-337-343</doi>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук</journal>
   <abstract>В программном комплексе Silvaco создана модель структуры ячеек кремниевых фотоэлектронных умножителей (SiФЭУ). Ячейки представляли собой оптически изолированные друг от друга n+–p–p+-структуры. Оптическая изоляция ячеек осуществлялась канавками, которые после пассивации боковых стенок слоем SiО2 заполнялись металлом. Моделирование проводилось для двух вариантов конструкции структур SiФЭУ: вывод металла канавки электрически соединялся 1) с n+-областью ячейки, 2) с p+-областью. Ячейки облучались рентгеновскими квантами с энергией 10 кэВ дозой 105 рад при значениях обратного электрического смещения Ub = –30 В (активный электрический режим) и Ub = 0 В (пассивный электрический режим). Получено распределение объемной плотности накопленного заряда Q в слое окисла разделительной канавки. Установлено, что максимальное значение Q &amp;gt; 0 зависит от режима облучения. В пассивном режиме величина Q минимальна и совпадает для обоих вариантов структур, в активном режиме она возрастает по сравнению с пассивным в 2,5 раза для SiФЭУ со структурой второго варианта и в 5,9 раза со структурой первого. Полученный результат объясняется усилением выхода заряда Q дырок под действием электрических полей в слоях окислов разделительных канавок ячеек SiФЭУ.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/12735</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/12701</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
