17 Кукареко В. А. Кушнеров А. В. Попок Н. Н. вакуумно-дуговое покрытие TiN отжиг структура нанотвердость модуль упругости нагрузка отслаивания 2024 2025-01-08 10.29235/1561-2430-2024-60-4-344-352 Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук Исследовано влияние отжига при 350–500 °С на структурно-фазовое состояние, нанотвердость, модуль упругости и критическую нагрузку отслаивания Lc вакуумно-дуговых покрытий TiN, нанесенных на подложку из предварительно отожженной стали 9ХС. Установлено, что в покрытии TiN содержатся фазы TiN и Ti. Нанотвердость покрытия составляет 29 ГПа, а модуль упругости – 485 ГПа. Сделано заключение, что повышенные значения нанотвердости и модуля упругости покрытия связаны с присутствием в нем большого количества дефектов кристаллической решетки. Показано, что по мере увеличения температуры отжига покрытия от 350 до 500 °С значения нанотвердости и модуля упругости покрытий TiN уменьшаются, при этом регистрируется увеличение параметра кристаллической решетки, а также уменьшение плотности дислокаций и диспергирование TiN. Увеличение параметра кристаллической решетки TiN при отжиге покрытия связано с образованием в нем вакансионных комплексов. Установлено, что в результате отжига покрытий TiN нагрузка его отслаивания увеличивается от 12,8 до 21,1 Н. Следовательно, возрастание нагрузки отслаивания покрытия при отжиге связано с образованием оксидной пленки, которая препятствует зарождению (генерированию) дислокаций при внедрении и перемещении индентора в покрытии и, таким образом, замедляет образование микротрещин на границе покрытия и подложки. https://www.academjournals.by/publication/12672 https://www.academjournals.by/files/12638