17 Курилкина С. Н. Хило Н. А. литография эванесцентная волна поверхностная волна плазмон-поляритон металлодиэлектрическая слоистая структура 2024 2025-01-08 10.29235/1561-2430-2024-60-4-335-343 Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук Предложена и исследована схема для оптической нанолитографии интерференционного типа, основанная на использовании возбуждения встречных поверхностных плазмон-поляритонов на плоской границе раздела металлодиэлектрической наноструктуры. Выполнен детальный расчет схемы оптической нанолитографии, предназначенной для формирования синусоидальных дифракционных решеток. Показано, что использование призмы ввода с большим показателем преломления позволяет более чем на порядок повысить коэффициент усиления формируемого в фоторезисте светового поля. Установлено, что путем изменения толщины слоев металлодиэлектрической структуры можно изменять волновое число, при котором реализуется условие плазмонного резонанса, и тем самым управлять периодом формируемых решеток и глубиной проникновения поля в фоторезист. Предложенная схема может быть использована для создания двумерных, круговых решеток, а также решеток произвольной формы при соответствующем выборе формы вводной призмы. https://www.academjournals.by/publication/12671 https://www.academjournals.by/files/12637