<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Огородников Д. А.</author>
     <author>Ластовский С. Б.</author>
     <author>Богатырев Ю. В.</author>
     <author>Лемешевская А. М.</author>
     <author>Цымбал В. С.</author>
     <author>Шпаковский С. В.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Влияние гамма-облучения на обратные вольт-амперные характеристики кремниевых фотоумножителей</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>кремниевые фотоумножители</keyword>
    <keyword>вольт-амперная характеристика</keyword>
    <keyword>лавинный пробой</keyword>
    <keyword>гамма-излучение</keyword>
    <keyword>радиационная стойкость</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2024</year>
    <pub-dates>
     <date>2024-10-06</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-2430-2024-60-3-252-262</doi>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук</journal>
   <abstract>Исследовано влияние гамма-квантов Со60 на обратную вольт-амперную характеристику (ВАХ) кремниевых фотоэлектронных умножителей (SiФЭУ) с 1004 ячейками, представляющими собой оптически изолированные друг от друга n+ –p–p+ -структуры. Оптическая изоляция ячеек осуществлялась канавками, которые после пассивации стенок слоями SiО2 и Si3N4 заполнялись вольфрамом. Исследовались SiФЭУ двух вариантов конструктивного исполнения. В первом варианте (ВI) вывод металла канавки электрически соединялся через гасящий поликремниевый резистор с n+-областью ячейки, во втором (BII) – с p+-областью. Напряжение пробоя исследуемых SiФЭУ составляло Ubr = 34 ± 1,0 В. Образцы облучались в режиме лавинного пробоя (активный электрический режим) и при обратном смещении Ub = 0 В (пассивный режим). Установлено, что при значении поглощенной дозы D = 106 рад темновой ток возрастает в 6–7 раз у SiФЭУ (BI) и (BII), облучаемых в пассивном режиме, и в 15–16 раз у SiФЭУ (BII), облучаемых в активном режиме. Для SiФЭУ (ВI), облучаемых в режиме лавинного пробоя, значение темнового тока возрастает в 104 раз при D = 105 рад. Показано, что радиационная деградация темнового тока исследуемых SiФЭУ вызвана увеличением генерационной и главным образом поверхностной составляющих в результате накопления положительного заряда в изолирующем слое разделительных канавок.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/12662</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/12628</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
