<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<xml>
 <records>
  <record>
   <ref-type name="Journal Article">17</ref-type>
   <contributors>
    <authors>
     <author>Поклонский Н. А.</author>
     <author>Аникеев И. И.</author>
     <author>Вырко С. А.</author>
    </authors>
   </contributors>
   <titles>
    <title>Низкочастотный конденсатор с прыжковой электропроводностью рабочего вещества (на примере a-Si:H)</title>
   </titles>
   <keywords>
    <keyword>гидрогенизированный аморфный кремний</keyword>
    <keyword>диоксид кремния</keyword>
    <keyword>низкочастотный конденсатор</keyword>
    <keyword>электропроводность на постоянном и переменном токах</keyword>
    <keyword>электрическая емкость</keyword>
    <keyword>сдвиг фаз</keyword>
   </keywords>
   <dates>
    <year>2024</year>
    <pub-dates>
     <date>2024-07-09</date>
    </pub-dates>
   </dates>
   <doi>10.29235/1561-2430-2024-60-2-153-161</doi>
   <journal>Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук</journal>
   <abstract>Предложены структурная и электрическая схемы конденсатора на основе слоя a-Si:H (аморфного гидрогенизированного кремния) толщиной 3 мкм, отделенного от металлических обкладок диэлектрическими прослойками из SiO2 (диоксида кремния) толщиной 0,3 мкм. Рассматриваются комнатные температуры (T ≈ 300 К), когда в отсутствие подсветки для a-Si:H преобладает прыжковый механизм миграции электронов между точечными дефектами структуры. Для такого конденсатора рассчитаны зависимости электрической емкости от частоты измерительного сигнала ω/2π в диапазоне от 0,1 до 300 Гц для слоя a-Si:H cо стационарной прыжковой электропроводностью σdc ≈ 1 ∙ 10−10 (Ом ∙ см)−1. Считалось, что при малосигнальном режиме измерения емкости сквозного переноса электронов между слоем a-Si:H, слоями диэлектрика и обкладками конденсатора нет. Показано, что действительная часть емкости конденсатора уменьшается с увеличением угловой частоты ω, а мнимая часть отрицательна и немонотонно зависит от ω. Уменьшение действительной части емкости конденсатора до геометрической емкости последовательно соединенных оксидных слоев и слоя a-Si:H при увеличении ω обусловлено уменьшением электрического сопротивления конденсатора. Вследствие этого с увеличением ω мнимая часть емкости шунтируется прыжковой электрической проводимостью конденсатора. Определен сдвиг фаз для подаваемого на конденсатор синусоидального электрического сигнала в зависимости от частоты ω/2π в диапазоне 0,1–300 Гц для значений электропроводности слоя гидрогенизировнаного аморфного кремния σdc ≈ 1 ∙ 10−11; 1 ∙ 10−10; 1 ∙ 10−9 (Ом ∙ см)−1 при температуре 300 К. С увеличением электропроводности σdc слоя a-Si:H минимальное абсолютное значение угла сдвига фаз (≈65°) сдвигается в область высоких частот (от 1 до 100 Гц). Предложенный конденсатор может найти применение в электрических цепях регистрации низкочастотных сигналов для целей биомедицины.</abstract>
   <urls>
    <web-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/publication/12654</url>
    </web-urls>
    <pdf-urls>
     <url>https://www.academjournals.by/files/12620</url>
    </pdf-urls>
   </urls>
  </record>
 </records>
</xml>
