RT - article
SR - Electronic
T1 - ОСОБЕННОСТИ СТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТИ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ ПРИ ВВЕДЕНИИ В ЭЛЕКТРОЛИТ МЕДНЕНИЯ УЛЬТРАДИСПЕРСНЫХ АЛМАЗОВ И АЛМАЗНОЙ ШИХТЫ
JF - Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия химических наук
SP - 2018-03-05
DO - 10.29235/1561-8331-2018-54-1-24-31
A1 - Яскельчик В. В., 
A1 - Жарский И. М., 
A1 - Михедова Е. В., 
A1 - Черник А. А., 
YR - 2018
UL - https://www.academjournals.by/publication/12303
AB - Исследованы свойства композиционных медных покрытий с включениями ультрадисперсных алмазов (УДА) и алмазной шихты (АШ) в цитратном электролите меднения. Концентрации алмазосодержащих добавок варьировали в диапазоне 0,2–2 г/л. По изображениям, полученным с помощью растрового электронного микроскопа, определили размеры микрокристаллов меди, частиц УДА и АШ. С помощью рентгенофлуоресцентного анализа установили взаимосвязь между концентрацией алмазосодержащих добавок в электролите и их содержанием в полученных покрытиях. Минимальная микропористость и максимальная микротвердость соответствует концентрации 1,0 г/л как для суспензии с УДА, так и для суспензии с АШ в цитратных электролитах меднения. Покрытия медь-УДА обладают повышенными защитными свойствами (пористость 2 пор/см2 ) и однородностью распределения алмазосодержащих частиц по поверхности в сравнении с монопокрытием и медь-АШ. Для получения композиционных электрохимических покрытий предпочтительнее использовать УДА в цитратном электролите меднения с концентрацией алмазосодержащей добавки 1,0 г/л.